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[单选题]

为了避免陷落效应,晶体管的发射区多采用()扩散来代替磷扩散。

A.铟

B.硼

C.镓

D.砷

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第1题

分别计算掺有下列杂质的Si,在室温时的载流子浓度、迁移率和电阻率:①硼原子3X1015cm-

分别计算掺有下列杂质的Si,在室温时的载流子浓度、迁移率和电阻率:

①硼原子3X1015cm-3;

②硼原子1.3X1015cm-3+磷原子1.0X1016cm-3:

③磷原子1.3X1015cm-3+硼原子1.0X1016cm-3:

④磷原子3X1015cm-3+镓原子1X1017cm-3+砷原子1X1017cm-3

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第2题

变换工序高变催化剂的永久性毒物有()

A.磷、砷

B.氟、氯

C.A+B+硼

D.C+硫

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第3题

神八采用的太阳能电池材料是()。

A.晶体硅

B.非晶硅

C.砷化镓

D.纳米TiO2

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第4题

下列关于玻璃器皿的说法,错误的是()。

A.软质玻璃(普通玻璃),多制成不需要加热的器皿

B.硬质玻璃(硼硅玻璃),可制成加热的器皿

C.硬质玻璃器皿可用于硼、锌、砷元素的测定

D.硬质玻璃器皿不能用于硼、锌、砷元素的测定

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第5题

制造晶体管--般是在高杂质浓度的n型衬底上外延一层n型的外延层,再在外延层中扩散硼、磷而成。①

制造晶体管--般是在高杂质浓度的n型衬底上外延一层n型的外延层,再在外延层中扩散硼、磷而成。

①设n型硅单晶衬底是掺锑的,锑的电离能为0.039eV,300k时的EF位于导带底.下面0.026eV处,计算锑的浓度和导带中电子浓度。

②设n型外延层杂质均匀分布,杂质浓度为4.6x1015cm-3,计算300K时EF的位置及电子和空穴浓度。

③在外延层中扩散硼后,硼的浓度分布随样品深度变化。设扩散层某一深度处硼浓度为5.2x1015cm-¿39

40¿, 计算300K时EF的位置及电子和空穴浓度。

④如温度升高到500K,计算③中电子和空穴的浓度(本征载流子浓度、数值查图3-7)。

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第6题

造成发射区重掺杂效应的原因有()。

A.发射区禁带变宽

B.发射区禁带变窄

C.俄歇复合减弱

D.俄歇复合增强

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第7题

下面哪一种方法是不能提高npn晶体管的发射效率()。

A.提高发射区的掺杂浓度

B.采用宽禁带基区材料

C.减小基区掺杂浓度

D.减少发射结复合电流

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第8题

溶解4.013g含有镓和铟化合物的试样并稀释至100.0mL.移取10.0mL该试液并调节至合适的酸度后,以
0.01036mol·L-1EDTA滴定之,用去35.32mL.另取等体积试液用去0.01142mol·L TTHA (三亚乙基四胺六乙酸)18.43mL滴定至终点。计算试样中镓和铟的质量分数。已知锅和铟分别与TTHA形成2:1(Ga2L)和1:1(InL)络合物。

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第9题

制造晶体管一般是在高杂质浓度的n型衬底上外延一层n型的外延层,再在外延层中扩散硼、磷而成。①
设n型硅单晶衬底是掺锑的,锑的电离能为0.039eV,300k时的EF位于导带底下面0.026eV处,计算锑的浓度和导带中电子浓度。②设n型外延层杂志均匀分布,杂质浓度为4.6x1015cm-3,计算300K时的EF位置和电子空穴浓度。③在外延层中扩散硼后,硼的浓度分布随样品深度变化。设扩散层某一深度处硼的浓度为5.2x1015cm-3,计算300K时EF位置和电子空穴浓度。④如温度升高到500,计算③中电子空穴的浓度。

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第10题

攀移是个热激活过程,靠原子扩散来实现,温度越高,越容易扩散,攀移速度越快。应力对攀移有一定影响,半原子面侧受压应力有利于正攀移,受拉应力有利于负攀移()
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